Influencia De Campos Secundarios - Siemens SIMATIC RF200 IO-Link Manual De Sistema

Planificar un sistema IO-Link RF200
4.1 Consideraciones previas a la instalación
4.1.7

Influencia de campos secundarios

Por lo general, en una área de 0 al 30 % de la distancia límite existen siempre campos
secundarios (S
No obstante, para efectos de selección y configuración éstos únicamente deberían ser
acercados en casos excepcionales, ya que las distancias de escritura/lectura son muy
limitadas. No es posible precisar las geometrías de los campos secundarios presentes
porque los valores dependen en gran medida de la distancia operativa y el tipo de
aplicación. Durante el servicio hay que tener en cuenta que al pasar del campo secundario
al principal se puede perder temporalmente la presencia del transpondedor. Por ello se
recomienda elegir una distancia de más del 30 % de S
Figura 4-5
22
).
g
Orificio de campo generado por campos secundarios
.
g
Manual de sistema, 03/2012, C79000-G8978-C276-01
SIMATIC RF200 IO-Link