Influencia De Campos Secundarios - Siemens SIMATIC RF200 Manual De Sistema

4.1.4

Influencia de campos secundarios

Por lo general, en un rango de 0 mm al 30 % de la distancia límite existen siempre campos
secundarios (S
No obstante, para efectos de configuración estos únicamente deberían consultarse en casos
excepcionales, ya que las distancias de escritura/lectura son muy limitadas. No es posible
precisar las geometrías de los campos secundarios presentes porque los valores dependen
en gran medida de la distancia operativa y el tipo de aplicación. Al trabajar en el área
dinámica se debe tener en cuenta que la presencia del tag se puede perder temporalmente
durante la transición del campo secundario al campo principal. Por ello se recomienda elegir
una distancia superior al 30% de S
①
②
Figura 4-3
SIMATIC RF200
Manual de sistema, 07/2017, J31069-D0227-U001-A9-7819
).
g
Campo principal
Campo secundario
Orificio de campo generado por campos secundarios
4.1 Consideraciones previas a la instalación
.
g
Planificación del sistema RF200
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