Compartimento De Plasma - Analytik Jena PlasmaQuant MS Manual De Usuario

Familia de productos PlasmaQuant MS
3.2.2

Compartimento de plasma

Producción de plasma
Analytik Jena ofrece equipos de alimentación de muestras optimizados para usos
especiales:
 Equipo de sistema de entrada de muestra inerte para analítica de ultravestigios, p.
ej. en la tecnología de semiconductores (antorcha con inyector de platino,
pulverizador de perfluoroalcoxialcano (PFA), cámara de pulverización PFA y línea
de transferencia PFA)
 Equipo geoquímico de sistema de entrada de muestras inerte
(antorcha con inyector de zafiro, pulverizador PFA, cámara de pulverización PFA y
línea de transferencia PFA)
 Equipo de sistema de entrada de muestras para muestras orgánicas, p.ej. alcoholes,
queroseno (antorcha con inyector de 1,5 mm, mangueras de la bomba resistentes
al disolvente)
 Equipo de sistema de entrada de muestras para muestras orgánicas rápidas, p.ej.
alcoholes, queroseno (antorcha con inyector de 1,5 mm, mangueras de la bomba
resistentes al disolvente viton)
 Equipo de estándares internos para añadiduras automáticas une solución estándar
interna (mangueras, unión en Y, solución estándar interna)
La fuente de iones se encuentra en la cámara de plasma. El orden debe proteger el
usuario de la radiación de alta frecuencia y UV que sale del plasma. La separación
espacial de la alimentación de muestras y el plasma oculta además que el calor del
plasma alcanza a la cámara de pulverización.
El generador AF del semiconductor (300 V, RMS, 27 MHz) contiene una bobina de
inducción de refrigeración de agua con tres espiras. Está conectada a tierra de forma
virtual, por lo que se ocupa de un plasma extremadamente estable y elimina el peligro
de un salto de chispas potencial en la bobina. El plasma simétrico es estable sobre el
área de 0,3 hasta 1,6 kW, lo que da lugar a una formación mínima de óxido e iones
dobles cargados. Además la pequeña oscilación potencial del plasma detiene la
distribución energética de iones de la misma masa. No se consigue un blindaje extra
de antorcha porque existe un peligro suficiente para la descarga secundaria.
El plasma Eco necesita simplemente de un caudal de gas de plasma de 7,5-10,5 l/min
y origina costes bajos comparables.
Sobre Nitrox opcional, el nitrógeno y el oxígeno puede añadirse a los gases auxiliares
de plasma. La ionización puede aumentar (de As, Se) con nitrógeno en plasma. El
carbono oxidado, que aparece en grandes cantidades en disolventes orgánicos y se ha
acumulado con rapidez en los conos de la interfaz. Nitrox pertenece al equipo estándar
de PlasmaQuant MS Elite. Para los modelos PlasmaQuant MS se encuentra disponible
el equipo de mejora.
Función y estructura
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