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Cuidado y mantenimiento
7.2 Tareas de mantenimiento y reparación
7.2.2
Limpieza
Limpieza
Si la aplicación requiere limpieza, debe observarse lo siguiente:
•
El proceso de limpieza debe realizarse de una manera que:
• El producto de limpieza no puede penetrar en el aparato a través de la junta de la tapa o del
• No pueden producirse daños mecánicos en el sellado de la tapa, el prensaestopas o las otras
Las unidades con certificación EHEDG (EL clase I), que se utilizan en la respectiva aplicación
EHEDG deben limpiarse de acuerdo con la normativa correspondiente.
El dispositivo se ha diseñado para la aplicación de limpieza in situ (CIP) y no debe desmontarse
para su limpieza.
7.2.3
Temperatura máxima para limpieza in situ (CIP)
Temperatura máxima para limpieza in situ (CIP)
135°C (275°F), duración 60min
150°C (302°F), duración 30min (sólo para el SITRANS LCS100 con conexión a proceso G 1/2"
higiénica) Temperatura ambiente limitada a 50°C (122°F), unidad sin tensión.
7.2.4
Fecha de fabricación
Fecha de producción
La fecha de producción puede rastrearse por el número de serie de la placa de características.
Póngase en contacto con el fabricante o su distribuidor local.
62
ADVERTENCIA
El producto de limpieza debe cumplir con los materiales de la unidad (resistencia química).
Hay que tener en cuenta sobre todo el sellado de la tapa, el prensaestopas y la superficie de
la unidad.
prensaestopas
piezas
ADVERTENCIA
ADVERTENCIA
SITRANS LCS100 versión I/O Link
Instrucciones de servicio, 05/2023, A5E52491865-AA
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