Resistencia Química; Lista De Sustancias Químicas - cytiva UniFlux 10 Instrucciones De Funcionamiento

8 Información de referencia
8.4 Resistencia química
8.4 Resistencia química
Introducción
En la siguiente tabla se enumeran las concentraciones y los tiempos de exposición
permitidos para las diferentes sustancias químicas que pueden utilizarse en términos
generales en los instrumentos BioProcess™ de Cytiva. Para obtener información sobre
la resistencia química de la fibra hueca, consulte el Hollow fiber cartridges for
membrane separations Operating Handbook, Cytiva article no 18116530.
Algunas de las sustancias químicas enumeradas podrían no ser de utilidad en su
instrumento.
Lista de sustancias químicas
permitidas
Sustancia Concentración
química
Ácido acético 25 %
Acetona 10 %
Ácido cítrico pH de 2 a 2,5
Etanol 20 %
Etanol/Ácido 20 %
acético
Cloruro de 6 M
guanidinio
Ácido clorhí- 0,1 M con pH=1
drico
Ácido fosfórico 5 %
2-propanol 30 %
Cloruro de De 0 a 3 M
sodio
Hidróxido de 1 M con pH=14
sodio
0,5 M
0,01 M con pH=12
162
Tiempo máx./
ciclo
3 h
1 h
1 h a ≤ 60°C
12 meses
3 h
5 h
1 h
Toda la noche
1 h
3 h
24 h a ≤ 40 °C
3 h a ≤ 60 °C
12 meses
UniFlux 10 Instrucciones de funcionamiento 28993587 AF
Expos. máx. Uso
acumulada
3000 h CIP
Ilimitada Prueba de
célula de UV
1000 h CIP
Ilimitada Almacena-
miento
3000 h CIP
5000 h CIP
1000 h CIP
Ilimitada Para la pasiva-
ción SS
1000 h CIP
3000 h Depuración,
CIP
1000 días CIP
3000 h CIP
Ilimitada Almacena-
miento