MEDICIÓN Y CONTROL DE LA EXPOSICIÓN
MÉTODOS DE MEDICIÓN DE LA EXPOSICIÓN
Para la adaptación a las condiciones de luz existentes, a la situa-
ción o a su modo de trabajar y sus ideas en cuanto a diseño, la
Leica CL dispone de tres métodos de medición de la exposición.
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Medición de Exposición
Medición multicampo -
Con este método de medición, la cámara analiza las diferencias de
luminosidad presentes en el motivo y, realizando una comparación
con muestras de distribución luminosa programadas, deduce la
posible situación del motivo principal y la correspondiente mejor
exposición.
En consecuencia, este método es especialmente adecuado para
fotografi ar de forma espontánea y sin complicaciones, pero segura,
incluso en condiciones difíciles, y, por lo tanto, para la aplicación
en combinación con la programación automática.
Medición de Exposición
el ajuste deseado
Medición ponderada al centro -
Este método pondera sobre todo el centro del campo de imagen,
pero abarca también el resto de las zonas.
Permite, sobre todo en combinación con el almacenamiento del
valor de medición, el ajuste controlado de la exposición a determi-
nadas partes del motivo, teniendo en cuenta al mismo tiempo el
campo de imagen completo.
Medición puntual -
Este método de medición se concentra exclusivamente en una
pequeña zona del centro de la imagen. Permite medir con exac-
titud detalles muy pequeños para obtener una exposición precisa;
preferentemente en combinación con un ajuste manual.
En las fotografías a contraluz debe por ejemplo en la mayoría de
los casos evitarse que el entorno claro genere una exposición
insufi ciente del motivo principal. Con el campo muy pequeño de la
medición de haz concentrado pueden evaluarse selectivamente
tales detalles del motivo.
ES
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