ES
MEDICIÓN Y CONTROL DE LA EXPOSICIÓN
Métodos de medición de la exposición
Para la adaptación a las condiciones de luz existentes, a la situación
o a su modo de trabajar y sus ideas en cuanto a diseño, la Leica X
dispone de tres métodos de medición de la exposición.
En el menú, seleccione
ajuste deseado
Medición de campo múltiple -
Con este método de medición, la cámara analiza de forma autónoma
las diferencias de luminosidad presentes en el motivo y, realizando
una comparación con muestras de distribución luminosa programa-
das, deduce la posible situación del motivo principal y la correspon-
diente mejor exposición.
En consecuencia, este método es especialmente adecuado para
fotografiar de forma espontánea y sin complicaciones, pero segura,
incluso en condiciones difíciles, y, por lo tanto, para la aplicación en
combinación con la programación automática.
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, y en el submenú, el
Medición de Exposición
Medición de ponderación central -
Este método pondera sobre todo el centro del campo de imagen,
pero abarca también el resto de las zonas.
Permite, sobre todo en combinación con el almacenamiento del valor
de medición, el ajuste controlado de la exposición a determinadas
partes del motivo, teniendo en cuenta al mismo tiempo el campo de
imagen completo.
Medición puntual -
Este método de medición se concentra exclusivamente en una zona
minúscula del centro de la imagen, que se indica en el monitor por
medio de un punto verde. Permite medir con exactitud detalles
pequeños y muy pequeños para obtener una exposición precisa;
preferentemente en combinación con un ajuste manual.
En casos de tomas a contraluz, por ejemplo, se deberá impedir la
mayoría de las veces que el entorno claro conduzca a una subexposi-
ción del motivo principal. Con el campo de medición mucho más
reducido de la medición puntual se pueden evaluar también tales
detalles del motivo de forma controlada.