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MÉTODOS DE MEDICIÓN DE LA EXPOSICIÓN
Se pueden seleccionar los siguientes métodos de medición de la
exposición.
Configuración de fábrica:
Matricial
Puntual
Ponderada al centro
Ponderada altas luces
Matricial
▸
En el menú principal, seleccione
▸
Seleccione el método de medición deseado
(
,
Puntual
Ponderada al centro
• El método de medición establecido se muestra en el encabe-
zado de la pantalla del monitor.
Con la medición puntual, el campo de medición se puede despla-
zar:
▸
Presione el joystick en la dirección deseada
Notas
• Las informaciones sobre la exposición (valor ISO, apertura, ve-
locidad de obturación y balanza luminosa con la escala de com-
pensación de la exposición) le proporcionan información sobre
los ajustes necesarios para conseguir una exposición correcta.
• Las principales indicaciones (valor ISO, apertura y velocidad de
obturación) aparecen en la pantalla superior.
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FOTOGRAFIAR ▸ TIPO DE OBTURADOR
Medición de exposición
,
,
Ponderada altas luces
Matricial
PUNTUAL
Este método de medición se concentra solamente en una pequeña
sección en el centro de la imagen. Cuando se combina el método
de medición de la exposición
AF
y
se acoplan los campos de medición. En este
Puntual
Campo
caso, la medición de la exposición se realiza en el punto indicado
en el campo de medición AF, aunque este se desplace.
PONDERADA AL CENTRO
Este método tiene en cuenta todo el campo de imagen. Pero las
partes del sujeto captadas en el centro son mucho más deter-
minantes que las zonas marginales para el cálculo del valor de
exposición.
MATRICIAL
)
Este método de medición se basa en el registro de varios valores
medidos. Se utiliza un algoritmo para efectuar el cálculo conforme
a la situación, y como resultado se obtiene un valor de exposición
ajustado a la reproducción adecuada del sujeto principal adoptado.
con los métodos de medición
Puntual
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